![天津西美科技有限公司](http://img.czvv.com/logo/57cfec6484ae9c70147c6a2c/57cfec6484ae9c70147c6a2c.png)
天津西美科技有限公司 main business:光电材料、机电设备技术开发;以下限分支经营:光电材料、机电设备制造。(国家有专项、专营规定的按规定执行;涉及行业审批的经营项目及有效期限均以许可证或资质证为准) and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
welcome new and old customers to visit our company guidance, my company specific address is: 河东区大王庄七纬路83号(第二层B区第212房间).
If you are interested in our products or have any questions, you can give us a message, or contact us directly, we will receive your information, will be the first time in a timely manner contact with you.
- 120102000070914
- 911201025565255828
- 存续
- 有限责任公司
- 20100618
- 高钧
- 500万人民币
- 20100618 至 20300617
- 天津市河东区市场和质量监督管理局
- 20120813
- 河东区大王庄七纬路83号(第二层B区第212房间)
- 光电材料、机电设备技术开发;以下限分支经营:光电材料、机电设备制造。(国家有专项、专营规定的按规定执行;涉及行业审批的经营项目及有效期限均以许可证或资质证为准)
序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
1 | CN303730277S | 便携式空气净化器 | 2016.06.29 | 1.本外观设计产品的名称:便携式空气净化器。2.本外观设计产品的用途:用于室内外空气净化。3.本外观 |
2 | CN205710554U | 一种氧化铝抛光液配置装置 | 2016.11.23 | 本实用新型属于抛光液加工装置领域,尤其涉及一种氧化铝抛光液配置装置,其特征在于:所述研钵固定于所述固 |
3 | CN205704779U | 一种高速多线切割机 | 2016.11.23 | 本实用新型属于半导体加工设备领域,尤其涉及一种高速多线切割机,其特征在于:所述第一固定杆上固定有第一 |
4 | CN205699658U | 一种抛光液加工用过滤装置 | 2016.11.23 | 本实用新型属于抛光液加工装置领域,尤其涉及一种抛光液加工用过滤装置,其特征在于:所述搅拌轴与所述电机 |
5 | CN205700347U | 一种研磨液配制装置 | 2016.11.23 | 本实用新型属于研磨液加工装置领域,尤其涉及一种研磨液配制装置,其特征在于:所述转轴的下端设置于所述轴 |
6 | CN106141903A | 双面陶瓷研磨盘的合成 | 2016.11.23 | 本发明涉及双面陶瓷研磨盘的合成。其特征在于:所述双面陶瓷研磨盘包括:陶瓷磨粒、金刚石磨粒、刚玉磨粒, |
7 | CN105881198A | 一种抛光模板用吸附垫片 | 2016.08.24 | 本发明涉及一种抛光模板用吸附垫片,其特征在于包含垫片本体,位于抛光模板的置片孔中。此吸附垫片由三个层 |
8 | CN102581750B | 一种双镶嵌层无蜡研磨抛光模板 | 2015.04.29 | 本发明涉及一种双镶嵌层无蜡研磨抛光模板,其特征在于:所述双镶嵌层无蜡研磨抛光模板是由五个圆柱状的层状 |
9 | CN202507187U | 一种单镶嵌层无蜡研磨抛光模板 | 2012.10.31 | 本实用新型涉及一种单镶嵌层无蜡研磨抛光模板,其特征在于:所述单镶嵌层无蜡研磨抛光模板是由四个圆柱状的 |
10 | CN102581750A | 一种双镶嵌层无蜡研磨抛光模板 | 2012.07.18 | 本发明涉及一种双镶嵌层无蜡研磨抛光模板,其特征在于:所述双镶嵌层无蜡研磨抛光模板是由五个圆柱状的层状 |
![](http://sw-static.czvv.com/public/images/company/title_l.gif)
![]() |
天津西美科技有限公司 |
地址:河东区大王庄七纬路83号(第二层B区第212房间) |
工商注册信息:查看详情 |